半导体
适用于以下应用:
随着制程数量的增加,每一步的微小误差都会逐渐累积,最终可能导致晶片的良率接近于零。
因此,为了确保最终产品的质量,半导体厂商必须对每一个制程进行严格的品质控管。检测与制程控制已成为现代半导体制造成功的核心要素。
在半导体制造过程中,晶圆的外观会因为任何微小的变形而对最终产品的效能和良率产生深远影响。例如,晶圆可能会因弯曲或支撑晶圆的卡盘接触点产生刮痕或裂纹,这些微小缺陷将直接影响到后续奈米级制程的准确与可靠性。
透过 AOI(Automated Optical Inspection)自动光学检查过程中,光学镜头等检测仪器需要在纳米级的尺度上进行高精度的测量。为了准确检测晶圆 / 晶片表面细节,必须依赖高阶精密定位控制技术来移动晶圆 / 晶片或检测镜头,使它们能够稳定且精确对准待测区域。
高精密定位技术在先进封装和半导体制造过程中扮演关键角色,尤其是进行晶片封装和测试。
由于 AI 需求爆发,先进晶片需同时达到高速和节能以及成本控制,先进封装亦成为全球主流。尺寸的缩小和功能复杂性的提升,制程中的奈米级定位精度成为必要,以确保每个晶片中的线路能够准确地堆叠,避免任何细微的错位造成损耗,才能提高生产效率。
先进封装技术在半导体产业中扮演着重要角色,随着晶片尺寸越来越小,在堆叠过程中对裸晶的平整度和晶片的对位精准度有着奈米级严格要求,若精度稍有不慎偏差则失之毫、釐差之千里,将影响整体性能与良率。除此之外,在堆叠前若没有做好已知合格裸晶测试(known good die testing)更是白费了先进封装制程,所以从硅光晶圆(Wafer)到晶片(Chip)必须经过严谨的光测 / 电测、外观等检测,确保品质效能与可靠度,提升良率、降低成本。高明铁在半导体产业的制程中,提供了光测、电测、外观检测、先进封装等奈米级高精密定位控制技术与手、电动滑台产品,为客户提供最佳的解决方案。
