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半导体

光测 / 电测 外观检测 先进封装
高明铁为全球半导体设备供应商提供奈米级高精密定位控制的解决方案
适用于以下应用:
光测 / 电测

随着制程数量的增加,每一步的微小误差都会逐渐累积,最终可能导致晶片的良率接近于零。
因此,为了确保最终产品的质量,半导体厂商必须对每一个制程进行严格的品质控管。检测与制程控制已成为现代半导体制造成功的核心要素。

光测 / 电测应用设备
高明铁高精密电动滑台在硅光晶圆光测(Silicon Photonics Wafer Testing),提供奈米级的精度将光纤与光波导光路精准对准,使光讯号精准地发送与接收在硅光晶圆上,确认传输效率与损耗率等性能检测。在电测方面,提供奈米级高精密定位控制技术,有效降低误差,提升良率,确保产品的竞争力和市场价值。
外观检测

在半导体制造过程中,晶圆的外观会因为任何微小的变形而对最终产品的效能和良率产生深远影响。例如,晶圆可能会因弯曲或支撑晶圆的卡盘接触点产生刮痕或裂纹,这些微小缺陷将直接影响到后续奈米级制程的准确与可靠性。
透过 AOI(Automated Optical Inspection)自动光学检查过程中,光学镜头等检测仪器需要在纳米级的尺度上进行高精度的测量。为了准确检测晶圆 / 晶片表面细节,必须依赖高阶精密定位控制技术来移动晶圆 / 晶片或检测镜头,使它们能够稳定且精确对准待测区域。

外观检测设备应用
高明铁奈米级高精密定位控制技术与手、电动滑台产品能够提升检测良率与出货品质。
先进封装/2.5D与3D立体封装

高精密定位技术在先进封装和半导体制造过程中扮演关键角色,尤其是进行晶片封装和测试。
由于 AI 需求爆发,先进晶片需同时达到高速和节能以及成本控制,先进封装亦成为全球主流。尺寸的缩小和功能复杂性的提升,制程中的奈米级定位精度成为必要,以确保每个晶片中的线路能够准确地堆叠,避免任何细微的错位造成损耗,才能提高生产效率。

先进封装设备应用
高明铁的高精密电动滑台能够精确控制移动与灵活快速,显着提升整体产生与品质。
突破效能极限,引领先进封装技术
奈米级高精密定位控制,准确达成高运算、高性能、低耗能

先进封装技术在半导体产业中扮演着重要角色,随着晶片尺寸越来越小,在堆叠过程中对裸晶的平整度和晶片的对位精准度有着奈米级严格要求,若精度稍有不慎偏差则失之毫、釐差之千里,将影响整体性能与良率。除此之外,在堆叠前若没有做好已知合格裸晶测试(known good die testing)更是白费了先进封装制程,所以从硅光晶圆(Wafer)到晶片(Chip)必须经过严谨的光测 / 电测、外观等检测,确保品质效能与可靠度,提升良率、降低成本。高明铁在半导体产业的制程中,提供了光测、电测、外观检测、先进封装等奈米级高精密定位控制技术与手、电动滑台产品,为客户提供最佳的解决方案。

为合作伙伴创造优势
OEM与ODM客制化
高明铁拥有丰富的设计与制造经验,无论是OEM 大量生产,还是ODM创新设计,都能满足您的精准度与应用需求,成为您实现效率与创新的最佳伙伴。
半导体应用设备-协同客户开发设计
协同客户开发设计
为客户提供专属的全方位解决方案,无论是功能设计、精度要求还是外观结构,我们能垂直整合高精密定位的模组与控制系统,精准对接客户需求。
半导体应用设备-精度领先,品质无忧
精度领先,品质无忧
高明铁高精密定位控制的电动滑台产品,可以提供奈米级的精度,达到半导体产业最严格的公差要求,确保产品的一致性与可靠性,为客户打造稳定的高品质解决方案。
半导体应用设备-提升生产效率
提升生产效率
高明铁的高阶精密电动滑台具有奈米级的精准控制定位技术,能完美适配于晶圆检测、切割、封装等流程,大幅提升生产效率并缩短周期。
半导体应用设备-模组化与灵活性
模组化与灵活性
提供多种尺寸与模组化设计,便于整合至不同的制造设备与系统中,灵活应 对半导体制造流程中的多变需求。
解决方案
半导体应用设备解决方案
SiPh Wafter Level Test System
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